By Prof. Dr. rer. nat. Martin Henzler, Prof. Dr. rer. nat. Wolfgang Göpel (auth.)
ISBN-10: 3322848752
ISBN-13: 9783322848758
ISBN-10: 3519130475
ISBN-13: 9783519130475
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Bei sehr niedrigen Drücken wird ein konstanter Strom gemessen, der einem Druck von etwa 10- 5 Pa entspricht. Dies wird in der Gleichung 1+ = r (p . 2) über a berücksichtigt. Der Reststrom bei p = 0 wird durch Photoelektronen bewirkt: Elektronen aus der Kathode erzeugen beim Auftreffen auf das Gitter Lichtquanten, die ihrerseits an der Anode Elektronen auslösen. Dieser Strom hat das gleiche Vorzeichen wie der Ionenstrom und ist druckunabhängig. h. die Grenze, bis zu der mit dieser Anordnung trotz der Photoelektronen Drücke gemessen werden können) in den Bereich von 10- 8 Pa verschieben können.
B. B. B. B. bei ZnO) oder andere Verfahren gezüchtet. 3 Herstellung definierter, einfacher Oberflächen 63 Vor dem Schneiden der Kristalle zur Erzeugung definierter EinkristallFlächen müssen diese orientiert werden. Mit der Laue-Rückstreuung auf einem photographischen Film lassen sich Genauigkeiten in der Justierung von etwa ~ 0 erreichen. Mit präzisen Goniometern und Braggreflexion läßt sich die Genauigkeit wesentlich steigern. Aus einem Kristall wird dann eine Scheibe der gewünschten OberflächenOrientierung geschnitten.
Dies liegt an verschiedenen Gasquellen wie Desorption und Ausdiffusion von Gasen aus den Wänden, Ausdiffusion aus fast geschlossenen kleinen Hohlräumen wie Gewindegängen in Schrauben, Nischen bei Dichtungen, die virtuelle Lecks darstellen und nicht mit einem Leckdetektor auffindbar sind. B. aus heißen Kathoden durch deren Zersetzung oder Elektronenstoßdesorption oder durch Diffusion von Helium durch eine Kapillare einer Helium-Gasentladungslampe sowie Rückdiffusion aus den Pumpen. Die hohen Pumpgeschwindigkeiten üblicher Pumpsysteme in heute verwendeten Anlagen ermöglichen es trotz großer Zahl von Dichtungen und verwinkelter Aufbauten, in einem komplexen UHV-System Ultrahochvakuumbedingungen zu erreichen, ohne daß extreme Maßnahmen wie Ausheizen der gesamten Apparatur auf 400°C und mehr oder Glühen aller inneren Metallteile ergriffen werden müßten.
Oberflächenphysik des Festkörpers by Prof. Dr. rer. nat. Martin Henzler, Prof. Dr. rer. nat. Wolfgang Göpel (auth.)
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